南京大学国家重点实验室完成nanoArchP110 验收

2017-07-14

 

2017年6月30日,摩方材料出品的微纳米尺度3D打印系统设备nanoArch™ P110由南京大学正式通过验收。这是摩方材料成长过程中,继nanoArch™ P120之后的又一里程碑,其代表着摩方材料在通往高精密微纳打印的道路上,逐渐迈向成熟,如同摩方材料公司核心价值观一样,稳中求进,逐渐强大。

 

 

 

nanoArch™采用PμLSE(面投影微立体光刻)技术,是用于实现高精度多材料微纳尺度3D打印的设备。其通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化,逐层累加从而完成产品的制作,即通过一次曝光可以完成一层的制作。

 

nanoArch System 是基于PULSE技术(面投影微立体光刻技术)的微纳米级3D打印系统,PμLSE技术(面投影微立体光刻技术)被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。

 

       微纳3D打印机nanoArch P110是采用PμLSE(面投影微立体光刻)技术,用于实现高精度多材料微纳尺度3D打印的设备。通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化,逐层累加从而完成产品的制作。通过一次曝光可以完成一层的制作,具备成型效率高、生产成本低、打印精度高等突出优势,并能实现多材料的微纳尺度材料三维打印。微结构分辨率可达2μm。

       在微纳加工领域,BMF Material拥有多年的实践经验,针对客户在设备使用中可能出现的工艺难题,提供简易高效的技术支撑方案;并可帮助客户挖掘广泛的科学家研究网络,促进材料研究。

 

微纳3D打印机nanoArch P110有以下四个显著的产品特点:

(1).可定制高定位精度的光学系统和运动平台,两者最高分辨率皆可达到2μm。

(2).配置高精度CCD图像监控系统,实现光学对焦及实时曝光补偿,方便用户监控打印过程中异常。

(3).采用图像拼接成型方式解决成型精度与大尺寸成型之间的矛盾。

(4).通过工艺技术控制,实现3D打印成品的表面光滑。

 

nanoArch™ P110 打印参数:

打印尺寸:

80x80 mm

打印技术:

PμLSE

机器尺寸:

1750x650x1820mm

操作软件:

LabView

模型厚度:

50mm

操作系统:

WINDOWS

XY方向精度:

2 um

文件格式:

PNG/STL

Z方向精度:

10 um

输入电压:

220V /50HZ

打印耗材:

光敏树脂

机器功率:

3000W

环境温度:

25±2℃

机器重量:

500KG

 

使用材料:

耗材要求:兼容各种中、低粘度405nm波长光固化树脂体系

 

应用行业:

1 科研类

 

 

ž    X.Zheng,   W.Smith, J.Jackson, B.Moran, H.Cui, D.Chen, J.Ye, N.Fang, N.Rodriguez,   T.Weisgraber & C.M.Spadaccini, "Multiscale Metallic   Metamaterials", Nature Materials,15(10):1100 (2016)

ž   X. Zheng, H.   Lee, T. H. Weisgraber, M. Shusteff, J. DeOtte, E. B. Duoss, J. D. Kuntz, M.M.   Biener, Q. Ge, J. A. Jackson, S. O. Kucheyev, N. X. Fang, C. M. Spadaccini, “Ultralight, ultrastiff mechanical metamaterials”, Science, Vol 344(6190), 1373-7(2014).

ž   Z.Liu,   H.Lee, Y.Xiong, C.Sun,and X,Zhang, "Far-Field Optical Hyperlens   Magnifying
  Sub-Diffraction-Limited Objects" Science   315(5819):1686 (2007)

ž   N.Fang,   H.Lee, C.Sun, and X.Zhang, "Sub-Diffraction-Limited Optical Imaging with   a Silver Superlens", Science,  308(5721), pp534-537, (2005)

 

2轻量化材料

 

 

  应用领域:航空/航天/汽车

 

3光学元器件

 

 

应用领域:手机/VR/相机

 

 

        希望南京大学师生可以利用nanoArch P110研究出更伟大的案例,给中国科学研究带来更多捷报,提升中国在国际高精密加工技术领域的雄厚实力!